該設(shè)備屬生產(chǎn)設(shè)備，主要功能包括：鈦/鋯磁控濺 射鍍裝飾膜，反應(yīng)膜、復(fù)合膜。其它功能還包括：行星旋 轉(zhuǎn)基片臺、負偏壓輔助沉積、PLC+HMI真空自動/手動控 制、水冷循環(huán)及斷水保護系統(tǒng)，預(yù)留多個標準接口。真空腔室的模塊化設(shè)計和加工。通過此項技術(shù)提高了腔室設(shè)計和加工效率，提高了重大部件的加工質(zhì)量和互換性，縮短了整條線的交貨周期。使用高性能旋轉(zhuǎn)陰極和中頻電源，最大蒸發(fā)電流達到400A，大大提高生產(chǎn)效率及膜層性能；通過輔助5段供氣，提高真空環(huán)境工藝氣體分布均勻性，提高膜層質(zhì)量；安裝整體式模塊化陰極屏蔽擋板，大大減少維修時間，降低維修成本。陰極采用隔離冷卻裝置，改變以往陰極磁鋼因工作在循環(huán)水中不斷吸附雜質(zhì)而影響磁場強度和壽命。新方法使磁鋼工作在真空環(huán)境，大大提高了陰極穩(wěn)定性和壽命。采用自主研發(fā)的傾斜式磁鋼矩陣排列，擴大了陰極靶材表面氣隙場范圍，增大了靶材被刻蝕濺射的面積，提高靶材的利用率和均勻性。表面氣隙場水平分量均勻性在±2%以內(nèi)。使用自主研發(fā)的三維空間磁場測量分析系統(tǒng)，系統(tǒng)用于測量磁鋼陣列的空間氣隙場分布及磁鋼安裝、調(diào)整，為陰極研發(fā)提供有效的技術(shù)手段。觸摸屏+PLC，可以實現(xiàn)電腦全自動控制，自動/手動隨時切換。同時配備先進的圓柱磁控濺射裝置和高效的電阻加熱蒸發(fā)裝置，將磁控濺射技術(shù)和加熱蒸發(fā)技術(shù)的有效結(jié)合，使設(shè)備的適用范圍更廣，可得到多種不同性能的膜層；獨特的雙門（室）結(jié)構(gòu)，使工件及鍍料的裝卸與鍍膜可同時進行，大大提高工作效率。